Cibles pures de pulvérisation de plat de chrome avec la résistance à la corrosion élevée

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: La Chine
Nom de marque: JINXING
Certification: ISO 9001
Numéro de modèle: Cible de pulvérisation de plat de chrome
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: 1 kg
Prix: 20~100USD/kg
Détails d'emballage: CAISSE DE CONTRE-PLAQUÉ
Délai de livraison: 10~25 jours de travail
Conditions de paiement: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Capacité d'approvisionnement: 100000kgs/M

Détail Infomation

Matériel: Chrome, Chrome Processus: CIP, pressing de HIP
Taille: Adapté aux besoins du client application: Revêtement de PVD,
Densité: 7.19g/cm3 Forme: Rond, plat, cible de pulvérisation de tube
Grosseur du grain: Grosseur du grain fin, bonne densité Pureté: 99,5%, 99,9%, 99,95%
Surligner:

Cibles pures de pulvérisation de plat de chrome

,

Cible élevée de pulvérisation de résistance à la corrosion

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cible de la pulvérisation 7

Description de produit

Cible de pulvérisation de plat de chrome

Le matériel de cible de pulvérisation de plat de chrome est métal brillant blanc argenté, le chrome pur a la ductilité, et le chrome contenant des impuretés est dur et fragile. La densité est 7.19g/cm3. Soluble dans la solution alcaline forte. Le chrome a une résistance à la corrosion élevée, et l'oxydation est lente dans le ciel, même dans l'état de la chaleur rouge. Insoluble dans l'eau. Protection par l'électrodéposition sur le métal

 

  • Description

La cible de pulvérisation de chrome, cible de chrome sont disponible dans des tailles variables

 

 

Le processus traditionnel d'agglomération de la cible de pulvérisation de chrome de grande pureté préparée par métallurgie des poudres est analysé et optimisé. Les résultats expérimentaux prouvent que la densité de cible peut être effectivement garantie en traitant la cible de pulvérisation avec la « presse à compression + agglomérant » ou « le pressing isostatique froid + agglomérant » et commandant la température d'agglomération raisonnablement.

 

 

Catégories : Cible de pulvérisation de Chrome
  Pureté : 99,5%, 99,9%, 99,95%
Alliage de chrome AlCr, CrAl, CrSi, TiCr etc.
Densité :  7.19g/cm3
Forme : Autour de la forme, forme de tube et forme de plat.

 

Tailles :

 

Cibles de pulvérisation de plat :

 

Épaisseur : 0,04 à 1,40 » (1,0 à 35mm).

Largeur jusqu'à 20" (50 à 500mm).

Longueur : 3,9" à 6,56 pieds (100-2000mm)

d'autres tailles comme en a été faite la demande.

 

Cibles de pulvérisation de cylindre :

 

3,94 diamètre X 1,58 » (100 diamètre X 40mm)

2,56 diamètre X 1,58 » (65 diamètre X 40mm)

ou 63*32mm d'autres tailles comme en a été faite la demande.

 

Cibles de pulvérisation de tube :

 

2,76 OD X 0,28 POIDS x 39,4" L (70 OD X 7 POIDS x 1000mm L)

3,46 OD X 0,39 POIDS x 48,4" L (88 OD X 10 POIDS x 1230mm L)

d'autres tailles comme en a été faite la demande.

 

L'effet de différentes méthodes de transformation sur la densité d'agglomération de la cible de chrome. En cours de pressing mécanique, le pressing bi-directionnel est adopté sans n'importe quels agent et deoxidizer de moulage. La densité de cible de l'anneau de Cr est 78% - 80% par l'agglomération mécanique de pressing + de vide ; la densité de cible de la cible de pulvérisation de plat de Cr est plus de 82% par l'agglomération isostatique froide de pressing + de vide ; après roulement, la densité de cible du plat de Cr est grimpée jusqu'à 90% - 95% ; la densité de cible de pulvérisation de l'alliage de Cr est plus de 98% par le pressing chaud. En optimisant le temps et la température d'agglomération, le coût d'agglomération de la cible d'anneau de chrome est considérablement réduit.

 

Application :


1. Pureté de chrome en métal 99% - 99,5% : utilisé pour des additifs d'alliage, le cermet, métallurgie des poudres, alliage dur, outils de diamant, produits de diamant, alliage électrique, jaillissent le fil creusé, les additifs d'alliage de matériaux de soudure et d'aluminium, les matériaux de pulvérisation thermiques, les matériaux résistants à l'usure à hautes températures et élevés, les matériaux de revêtement optiques, les produits chimiques, etc.


2. Pureté du chrome en métal 99,5% - 99,9% : utilisé pour le dépôt en phase vapeur physique, l'alliage à hautes températures, les matières premières pressantes isostatiques chaudes de cible de chrome, le cermet, l'addition dure d'alliage, les matériaux de soudure, les outils de diamant, le revêtement de laser, la pulvérisation, etc.


3. La pureté du chrome en métal est plus de 99,9% ; elle est employée pour les matériaux aérospatiaux, les turbines à vapeur, les cibles de revêtement, etc.

 

Type Application Alliage principal Demande
Semi-conducteur Préparation des matériaux de noyau pour des circuits intégrés Titane de W. Tungsten (WTI), alliage de Ti, de ventres, d'Al, Cu, etc., avec une pureté de plus que 4N ou 5N

 

 

 

Les impératifs techniques les plus élevés, métal ultra-haut de pureté, taille de haute précision, intégration élevée

 

Affichage d'écran La technologie de pulvérisation assure l'uniformité de la production cinématographique, améliore la productivité et réduit le coût Cible de niobium, cible de silicium, cible de Cr, cible de molybdène, MoNb, cible d'Al, cible d'alliage d'aluminium, cible de cuivre, cible d'alliage de cuivre

 

 

 

Impératifs techniques élevés, matériaux de grande pureté, grand secteur matériel et niveau élevé d'uniformité

 

Décorez Il est employé pour enduire sur la surface des produits pour embellir l'effet de la résistance à l'usure et de la résistance à la corrosion

 

 

 

 

Cible de chrome, cible titanique, zirconium (Zr), nickel, tungstène, aluminium titanique, CRSI, CrTi, cralzr, cible d'acier inoxydable

 

principalement utilisé pour la décoration, l'économie d'énergie, etc.
Outillage

 

 

 

Renforcez la surface des outils et les moules, améliorent la durée de vie et la qualité des pièces manufacturées

 

Cible de TiAl, cible d'Al de Cr, cible de Cr, cible de Ti, étain, tic, Al203, etc. Conditions de haute performance et longue durée de vie
Photovoltaïque solaire Technologie pulvérisée de la couche mince pour la fabrication des piles solaires de quatrième génération de la couche mince Cible d'oxyde d'aluminium de zinc, cible d'oxyde de zinc, cible en aluminium de zinc, cible de molybdène, cible du sulfure de cadmium (CDS), sélénium de cuivre de gallium d'indium, etc. Application large
Accessoires électroniques

 

 

 

 

Pour la résistance de film et la capacité de film

 

Cible de NiCr, cible de NiCr, cible du Cr SI, cible de ventres, cible d'Al de NiCr, etc. La stabilité de petite taille et bonne et le petit coefficient de température de résistance sont exigés pour des appareils électroniques
Stockage de l'information

 

 

 

 

Pour faire la mémoire magnétique

 

Le Cr basé, Co a basé, Fe de Co basé, Ni a basé des alliages Densité élevée de stockage, vitesse élevée de transmission

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