cible 3x3mm de pulvérisation de 99,5% 99,9% 99,95% Chrome 6x6mm pour le matériel d'évaporation

Cylindre de chrome pour l'évaporation 99,5%, 99,9%, 99,95%

Principe du revêtement d'évaporation :

le processus physique du revêtement d'évaporation du transport matériel d'évaporation au dépôt est comme suit :

1. Convertissez toutes sortes d'énergie en énergie calorifique, chauffez le matériel d'électrodéposition pour s'évaporer ou sublimer, et devenir des particules de gaz (atomes, molécules ou groupes atomiques) avec de certaine énergie (0.1-0.3ev) ;

2. Laissant la surface du matériel d'électrodéposition, les particules gazeuses avec la vitesse considérable sont transportées sur la surface du substrat dans fondamentalement un vol linéaire libre de collision ;

3. Les films de phase solide sont constitués par la condensation des particules gazeuses sur la surface du substrat ;

4. Les atomes qui composent le film sont réarrangés ou chimiquement collés.

Il y a beaucoup de genres de matériaux de revêtement d'évaporation. Actuellement, il y a des centaines d'eux sont principalement employés sur le marché. Le processus de fabrication inclut principalement : Cristal écrasant, écrasant de fonte, tréfilage, coupe de fil, granulation, pulvérisant, pressurage de comprimé, moulage, bâti, etc. La forme de produit inclut principalement : fil machine, poudre, particule irrégulière, petit cylindre, petite boule, cône

Les produits principaux sont :

comme suit : (des particules, les blocs et les poudres peuvent être adaptés aux besoins du client) les particules en aluminium 99,99% 3 * 3mm ; 99,999% particules de cuivre 3 * de 3mm 99,99% 3 * 3mm ; 99,999% particules de fer 3 * de 3mm 99,9% particules titaniques de 2 * de 3mm 99,999% particules de vanadium 6 * de 6mm 99,9% particules de nickel de 3 * de 3mm 99,999% particules de chrome 6 * de 6mm 99,95% particules de cobalt de 3-5mm 99,95% particules de manganèse de 2-8mm 99,8% particules de baryum de 1-10 millimètres 99,6% particules de calcium de 2-6cm (comme deoxidizer) 99,5% particules de tungstène de 1-3mm (utilisé comme deoxidizer) 99,95% particules de niobium de 6 * de 6mm 99,95% particules de molybdène 6 * de 6mm 99,95% particules de tantale de 6 * de 6mm 99,95% particules de zirconium 6 * de 6mm 99,5% 1,6 * 5mm ; 99,95% tiges en cristal d'hafnium de 2,4 * de 5mm 99,9% particules 99,9% d'hafnium de d21mm.

Al d'aluminium de grande pureté, Cu d'en cuivre de grande pureté, Ti titanique de grande pureté, silicium SI de grande pureté, Au d'or de grande pureté, AG argenté de grande pureté, indium de grande pureté dedans, magnésium de magnésium de grande pureté, Zn de zinc de grande pureté, platine pinte de grande pureté, GE de germanium de grande pureté, Ni de nickel de grande pureté, VENTRES de tantale de grande pureté, alliage Auge de germanium d'or, auni d'alliage de nickel d'or, alliage NiCr de chrome de nickel, alliage d'aluminium titanique TiAl, cuinga de cuivre d'alliage de gallium d'indium, alliage de cuivre CuInGaSe de sélénium de gallium d'indium, alliage d'aluminium ZnAl de zinc, alliage en aluminium AlSi de silicium et d'autres matériaux de revêtement des métaux.

Théorie de nucléation et de croissance de matériaux de la couche mince

1. Le processus spontané de nucléation de nucléation est conduit par l'énergie libre de transition de phase.

2. Nucléation non spontanée - en plus de la force d'entraînement de l'énergie libre de transition de phase, il y a d'autres facteurs pour aider la formation de nouveaux noyaux de phase.

3. Modèle de bande en cristal de croissance de film

Il y a trois processus du dépôt d'atome : dépôt ou adsorption d'atome de vapeur, diffusion extérieure et diffusion en vrac.

La formation de la structure de film est étroitement liée aux SOLIDES TOTAUX de la température de substrat/TM et à l'énergie des atomes déposés. Les SOLIDES TOTAUX est la température de substrat et le TM est le point de fusion du matériel déposé.