Demandez une citation
French
Aperçu ProduitsCibles de pulvérisationCibles cylindrique titaniques de pulvérisation, dépôt titanique de la couche mince de cible de cylindre de rotation, magnétron
Titanium Cylindrical Sputtering Targets,Titanium Rotating Cylinder Target Thin Film Deposition, Magnetron
Titanium Cylindrical Sputtering Targets,Titanium Rotating Cylinder Target Thin Film Deposition, Magnetron Titanium Cylindrical Sputtering Targets,Titanium Rotating Cylinder Target Thin Film Deposition, Magnetron Titanium Cylindrical Sputtering Targets,Titanium Rotating Cylinder Target Thin Film Deposition, Magnetron Titanium Cylindrical Sputtering Targets,Titanium Rotating Cylinder Target Thin Film Deposition, Magnetron

Cibles cylindrique titaniques de pulvérisation, dépôt titanique de la couche mince de cible de cylindre de rotation, magnétron

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: La Chine
Nom de marque: JINXING
Certification: ISO 9001
Numéro de modèle: Cible titanique de pulvérisation
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: 1kg
Prix: 20～200USD/kg
Détails d'emballage: caisse de contreplaqué
Délai de livraison: 10~25 jours de travail
Conditions de paiement: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Capacité d'approvisionnement: 100000kgs/M
Contactez

Détail Infomation
Matériel: Cibles cylindrique titaniques de pulvérisation Processus: CIP, pressing de HIP
Taille: Adapté aux besoins du client Application: procédé de protection de pvd
Forme: Rond, plat, tube Grosseur du grain: Grosseur du grain fin, bonne densité
Pureté :: 99,5%, 99。95% Densité: 4.52g/cm3

Description de produit

Cibles cylindrique titaniques de pulvérisation, dépôt titanique de la couche mince de cible de cylindre de rotation, magnétron

cibles titaniques rotatoires de pulvérisation de grande pureté avec la densité plus élevée possible et les plus petits possibles grosseurs du grain moyens pour l'usage en semi-conducteur, déposition en phase vapeur (CVD) et affichage physique du dépôt en phase vapeur (PVD) et applications optiques.

Spécifications

Composition Ti
Pureté

Catégorie 2 (99,5%), catégorie 1 (99,7%) de CP de CP,

3N5 (99,95%), 4N (99,99%), 4N5 (99,995%)
Densité 4,51 g/cm3
Grosseurs du grain < 50="" micron="" or="" on="" request="">
Processus de fabrication Nettoyez à l'aspirateur la fonte, en forgeant, expulsion, usinant
Forme Directement, os de chien
Types d'extrémité SCI, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, GPI finit la fixation, cannelure en spirale, faite sur commande
Surface Ra 1,6 microns ou sur demande

Cible tournante de pulvérisation relative de magnétron

Cible de pulvérisation de magnétron, cible de /rotating (cible de tube)          
Article pureté Densité forme Dimension (millimètres)  
Cible de TiAl 2N8-4N 3.6-4.2 Tube, disque, plat

OD70 X T 7 x L

Autre comme adapté aux besoins du client

  
Cible de Cr 2N7-4N 7,19 Tube, disque, plat

OD80 X T8 X L

Autre comme adapté aux besoins du client

  
Cible de Ti 2N8-4N 4,51 Tube, disque, plat

OD127 X ID105 X L

OD219 X ID194 X L

OD300 X ID155 X L

Autre comme adapté aux besoins du client

  
Cible de Zr 2N5-4N 6,5 Tube, disque, plat Autre comme adapté aux besoins du client  
Cible d'Al 4N-5N 2,8 Tube, disque, plat    
Cible de Ni 3N-4N 8,9 Tube, disque, plat    

Cible de Cu

(cuivre)

 3N-4N5 8,92 Tube, disque, plat    

Cible de Cu

(laiton)

 3N-4N5 8,92 Tube, disque, plat    
Cible de ventres 3N5-4N 16,68 Tube, disque, plat OD146xID136x299.67 (3pcs)  

Image cylindrique titanique de cibles de pulvérisation :

Cibles cylindrique titaniques de pulvérisation, dépôt titanique de la couche mince de cible de cylindre de rotation, magnétron 0

Cibles cylindrique titaniques de pulvérisation, dépôt titanique de la couche mince de cible de cylindre de rotation, magnétron 1

Produit Tag:

Cible de pulvérisation de tungstène

cibles de pulvérisation en métal

le titane pulvérisent la cible

Prenez contact avec nous

Entrez votre message

Vous pourriez être dans ces