TiAl pulvérisant vise Ti50Al50 pour l'espace de métallisation sous vide

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: La Chine
Nom de marque: Jinxing
Certification: ISO
Numéro de modèle: TiAl pulvérisant vise Ti50Al50
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: 10kgs
Prix: 10-100USD/kg
Détails d'emballage: paquet d'exportation standard
Délai de livraison: 10days
Conditions de paiement: L/C, T/T
Capacité d'approvisionnement: mois 10ton

Détail Infomation

Pureté: Al-Ti (35/65at%), Al/Ti (50:50 at%) Forme: Disques, plat, étape
Certification: ISO 9001:2008 Spécifications: Adapté aux besoins du client comme demande
Processus: HIP Nom: Cibles Ti50Al50 de pulvérisation
Surligner:

Cibles de pulvérisation de TiAl

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Cibles de la pulvérisation Ti50Al50

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Les cibles de pulvérisation de métallisation sous vide

Description de produit

Cibles Ti50Al50 de pulvérisation

JX specilizes dans les cibles de haute qualité Ti50Al50, cible de pulvérisation, cible en céramique, cible de pulvérisation de produit en métal.
Les produits sont appliqués à de divers champs de la métallisation sous vide par de diverses méthodes (pulvérisation de magnétron, électrodéposition de vide, etc.) : Recherche scientifique, aérospatial, des véhicules à moteur, la microélectronique, industrie de circuit intégré, source lumineuse, optique, décoration, industrie d'affichage à panneau plat, industrie de stockage de l'information, stockage de données et ainsi de suite.

 

1. Cible en métal
La cible de nickel, cible titanique, zinguent la cible, cible de chrome, cible de magnésium, cible de niobium, cible de bidon, cible en aluminium, cible d'indium, cible de fer, cible de zirconium, cible de silicium, cible de cuivre, cible de tantale, cible de germanium, cible argentée, cible d'or, cible de gadolinium, cible de lanthane, cible de yttrium, cible de cérium, cible d'hafnium, cible de molybdène, cible de tungstène, cible d'acier inoxydable, cible en aluminium de zirconium, cible de fer au nickel, cible en aluminium titanique, cible de chrome de nickel, cible de cuivre de sélénium de gallium d'indium, cible en aluminium de silicium, zinguent la cible etc. d'Aliminum.

 

2. Cible matérielle en céramique
Cible d'ITO, cible AZOÏQUE, cible d'IGZO, cible d'oxyde de magnésium, cible d'oxyde de yttrium, cible d'oxyde de fer, cible d'oxyde de nickel, cible d'oxyde de chrome, cible d'oxyde de zinc, cible de sulfure de zinc, cible de sulfure de cadmium, cible de sulfure de molybdène, cible de silice, cible d'oxyde de silicium, cible d'oxyde de cérium, cible de bioxyde de zirconium, cible de pentoxyde de niobium, cible de dioxyde de titane, cible du bisulfure de molybdène, cible de bioxyde d'hafnium, cible titanique de diboride, cible de diboride de zirconium, cible de trioxyde de tungstène, cible en aluminium de trioxyde, cible de pentoxyde de tantale, cible de fluorure de magnésium, cible de fluorure de yttrium, cible de séléniure de zinc, cible de nitrure en aluminium, cible de nitrure de silicium, cible de nitrure de bore, Cible cible de nitrure, de carbure de silicium titaniques, cible de niobate de lithium, cible de titanate de praséodyme, cible de titanate de baryum, cible etc. de titanate de lanthane.

 

3. Cible matérielle d'alliage
Ti-Al en aluminium titanique, le silicate en aluminium Al-SI, Al-Ti titanique en aluminium, AG-Cu argenté d'en cuivre, magnésium en aluminium Al-MG, Co-Fe-b de bore de fer de cobalt, le gallium de cuivre Cu-Dans-GA, Fe-manganèse ferrimanganic, le Dans-Sn de bidon d'indium, Co-Fe d'indium de fer de cobalt, nickellent le cobalt Nico, Ni-Fe de fer au nickel, Ni-Cr de chrome de nickel, nickeler le Ni-Zr de zirconium, aluminium Nial de nickel, nickellent le Ni-Cu de cuivre, nickellent le Ti-W de Ni-v de vanadium et titanique de tungstène, zinguer Al-Sc titanique de Zn-Al d'aluminium et en aluminium de bore d'Al-Ti-b, en aluminium de vanadium d'Al-v, en aluminium de scandium, Tin Cu-Sn de cuivre, Zr-Al de zirconium, fer en aluminium etc. de bore.

 

La pulvérisation vise l'image Ti50Al50 :

TiAl pulvérisant vise Ti50Al50 pour l'espace de métallisation sous vide 0TiAl pulvérisant vise Ti50Al50 pour l'espace de métallisation sous vide 1

La pulvérisation vise la description Ti50Al50

Pureté Al-Ti (35/65at%), Al/Ti (50:50 at%), AlTi 97/3wt%, AiTi 95/5wt%, AlTi 90/10wt%
Forme Disques, plat, étape (diamètre ≤300mm, épaisseur ≥1mm)
Rectangle, feuille, étape (longueur ≤1000mm, largeur ≤300mm, épaisseur ≥1mm)
Tube (Diameter2mm< 300mm="">
Certification 9001:2008 d'OIN
Spécifications Adapté aux besoins du client comme demande
Processus Forgé, roulement, rectifiant
Application

1. Galvanoplastie ;

2. Génie chimique et technologie pétrochimique ;

3. Médical

Pays de densité/origine province de 4.51g/cm3 /Henan

 

 

Cible pure élevée de pulvérisation en métal
Aluminium Al granule, rond, cible planaire et rotative 3N~6N
Chronium Cr 2N~3N5
Platine Pinte 4N~5N
Nickel Ni 4N~5N
Cobalt Co 3N~4N
Zirconium Zr 2N2~4N
Titane Ti 4N~5N
Cuivre Cu 4N~5N
Molybdène MOIS 3N~4N
Niobium NOTA: 3N5
Tatalum Merci 4N5
Tungstène W 3N5
Hafnium À haute fréquence 3N
Vanadium V 2N5~3N

 

 

 

Ti titanique de cible de l'alliage d'aluminium target/Ti-Al : 33:67% d'Al
Ti Al Fe SI Magnésium Cl C Manganèse O N
46,30 53,20 0,075 0,066 0,030 0,013 0,016 0,008 0,095 0,003

 

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