990,95% de cible de pulvérisation de zirconium pur Zr cible de pulvérisation pour l'industrie de l'optique, cibles de pulvérisation de métaux de haute pureté Zr702 de zirconium,Cible de pulvérisation rotative de zirconium pour le système de revêtement PVD à haute densité vers l'Amérique

Le matériau de zirconium est également l'un des matériaux préférés dans les revêtements d'outils, sa surface est facile à former un film de zirconium stable, avec une résistance à la corrosion extrêmement forte (résistance aux acides et aux alcalis).À la mi-septembre, nous avons livré nos cibles de pulvérisation métallique de haute pureté Zirconium Zr702 de haute qualité (y compris rondes,Les cibles plates et tubulaires) à nos clients aux États-Unis par la livraison express internationaleLes clients sont très satisfaits de la qualité des produits de notre société, des prix compétitifs et des délais de livraison, dans le processus de communication pour créer une bonne atmosphère de coopération et de confiance,les exigences des clients font aussi de leur mieux pour répondrePour la prochaine bonne coopération, notre société continuera à améliorer la technologie de production et l'attitude de service.
99.95% Cible de pulvérisation de zirconium pur Cible de pulvérisation Zr est principalement constituée d'une éponge de zirconium et d'une tige cristalline de zirconium comme matières premières, puis transformée par fusion de faisceaux électroniques, puis forgée,Le but de pulvérisation rotatif en zirconium peut améliorer la résistance à l'usure,résistance à la corrosion et durabilité de l'outil revêtu, et peut jouer un meilleur propriétés mécaniques dans l'usinage de haute résistance.principalement dans les industries électroniques et de l'information, tels que les circuits intégrés, le stockage d'informations, les écrans à cristaux liquides, la mémoire laser, les dispositifs de commande électronique et le revêtement de verre.résistance à la corrosion à haute température, des fournitures décoratives de haute qualité et d'autres industries.