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Aperçu ProduitsCibles de pulvérisation90:10 de cibles de pulvérisation d'Alsi de silicium/matériel en aluminium évaporation du 80:20 At%
Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material
Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material
Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material Aluminum Silicon Alsi Sputtering Targets 90:10 / 80:20 At% Evaporation Material

90:10 de cibles de pulvérisation d'Alsi de silicium/matériel en aluminium évaporation du 80:20 At%

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: La Chine
Nom de marque: JINXING
Certification: ISO 9001
Numéro de modèle: Cible en aluminium de pulvérisation de silicium
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: 1 kg
Prix: 20～150USD/kg
Détails d'emballage: CAISSE DE CONTRE-PLAQUÉ
Délai de livraison: 10~25 jours de travail
Conditions de paiement: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Capacité d'approvisionnement: 100000kgs/M
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Détail Infomation
Processus: CIP, pressing de HIP Grosseur du grain: Grosseur du grain fin, bonne densité
Taille: Adapté aux besoins du client application: procédé de protection de pvd
Matériel: Alliage en aluminium de silicium (AlSi) Forme: Rond, plat, tube
Surligner:

Cibles en aluminium de pulvérisation d'Alsi de silicium

,

Alsi pulvérisant vise le 90:10

,

Cibles de pulvérisation d'Alsi de 80:20

Description de produit

90:10 en aluminium d'alliage de cible de pulvérisation de silicium (AlSi)/80:20 at%

Après que le développement de la technologie de revêtement de pulvérisation ces dernières années, la technologie de revêtement pour différents matériaux ait été très parfait. Porter malheur à la société fournit une gamme complète de cibles de revêtement de pulvérisation (cibles y compris en métal, alliage et cibles intermédiaires d'alliage, cibles en céramique) aux entreprises d'universités et d'universités, d'instituts de recherche scientifique, industrielles et d'extraction.

 

Champ d'application du revêtement de pulvérisation : Le revêtement de pulvérisation est très utilisé dans le revêtement d'emballage, le revêtement de décoration, le revêtement en verre architectural, le revêtement en verre d'automobile, le revêtement en verre de bas rayonnement, l'affichage à panneau plat, la télécommunication optique/industrie optique, l'industrie optique de stockage de données, l'industrie optique de stockage de données, l'industrie magnétique de stockage de données, le revêtement optique, le domaine de semi-conducteur, l'automation, l'énergie solaire, le traitement médical, le film d'auto-lubrification, le revêtement de dispositif de condensateur, tout autre revêtement fonctionnel, etc. (le clic pour écrire l'introduction détaillée)


Approvisionnement de carte mère de cible de pulvérisation, service de collage : le centre fournit un grand choix de carte mère de cible de pulvérisation, y compris le cuivre en l'absence d'oxygène, le molybdène, l'aluminium, l'acier inoxydable et d'autres matériaux. En même temps, il fournit le service de soudure entre la cible et le plat arrière.

 

La cible en aluminium de pulvérisation de silicium, la cible en aluminium de pulvérisation d'alliage de silicium sont disponible dans des tailles variables

 

D100x40mm D65x35mm etc.

 

Matériel de cible de pulvérisation de magnétron formant la méthode : la méthode de formation matérielle est choisie selon la performance des produits et les différentes conditions des clients. Généralement quand le point de fusion des matériaux est bas, il est nécessaire d'employer le vide fondant, moulant, forgeant et roulant pour éliminer la porosité. Naturellement, le traitement thermique efficace est nécessaire pour raffiner le matériel uniforme de grain. Des matériaux avec le point de fusion élevée (ou les matériaux avec la fragilité élevée) sont constitués par le pressurage chaud ou le pressing isostatique chaud, et certains sont constitués par le pressing isostatique froid et puis agglomérés. Toutes sortes de matériaux de cible de pulvérisation fournis par notre société ont la technologie appropriée, la haute densité, le grain uniforme et la longue durée de vie…

 

Applications : optique, l'électronique, optoélectronique, décoration, énergie solaire… Le matériel de revêtement assuré en portant malheur à la société a les avantages de la grande pureté, de la bonne densité et d'aucun point d'inflammabilité

 

  
Nom Type Densité (g/cm3) Point de fonte :
Cible de pulvérisation d'AlSi 90:10 approx.2.7  660

Cible de pulvérisation d'AlSi

 80:20 approx.2.7 660

 

 

 

Les produits principaux sont :

 

Al d'aluminium de grande pureté, Cu d'en cuivre de grande pureté, Ti titanique de grande pureté, silicium SI de grande pureté, Au d'or de grande pureté, AG argenté de grande pureté, indium de grande pureté dedans, magnésium de magnésium de grande pureté, Zn de zinc de grande pureté, platine pinte de grande pureté, GE de germanium de grande pureté, Ni de nickel de grande pureté, VENTRES de tantale de grande pureté, alliage Auge de germanium d'or, auni d'alliage de nickel d'or, alliage NiCr de chrome de nickel, alliage d'aluminium titanique TiAl, cuinga de cuivre d'alliage de gallium d'indium, alliage de cuivre CuInGaSe de sélénium de gallium d'indium, alliage d'aluminium ZnAl de zinc, alliage en aluminium AlSi de silicium et d'autres matériaux de revêtement des métaux.

 

 

90:10 de cibles de pulvérisation d'Alsi de silicium/matériel en aluminium évaporation du 80:20 At% 0

Produit Tag:

Cible de pulvérisation de tungstène

cibles de pulvérisation en métal

le titane pulvérisent la cible

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