Nickelez les cibles de pulvérisation pour les applications 8.9g/Cm3 commerciales et de recherches

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: La Chine
Nom de marque: JINXING
Certification: ISO 9001
Numéro de modèle: Cible de pulvérisation de nickel
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: 1 kg
Prix: 20~150USD/kg
Détails d'emballage: CAISSE DE CONTRE-PLAQUÉ
Délai de livraison: 10~25 jours de travail
Conditions de paiement: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Capacité d'approvisionnement: 100000kgs/M

Détail Infomation

Matériel: Cible de pulvérisation de nickel Processus: CIP, pressing de HIP
Taille: Adapté aux besoins du client application: procédé de protection de pvd
Forme: Rond, plat, tube Grosseur du grain: Grosseur du grain fin, bonne densité
Pureté :: 99,95%, 99,99%, 99,999% Densité: 8.9g/cm3
Surligner:

Nickelez les cibles de pulvérisation pour le message publicitaire

,

Cibles de pulvérisation pour des applications de recherches

,

8

Description de produit

Nickelez la pureté 99,95%, 99,99%, 99,999% de cible de pulvérisation

Matériel de grande pureté, matériel ultra-haut de pureté, matériel de grande pureté de semi-conducteur


Le monde de matériaux fournit les matériaux de grande pureté de 4N à 7N : pendant que les matières premières de l'industrie de semi-conducteur et de l'industrie électronique, les matériaux de grande pureté sont très utilisées dans divers champs industriels, y compris les couvertures luminescentes de champ, thermoelectronics, l'électronique, l'information, l'infrarouge, les piles solaires, les alliages performants, etc. portant malheur à le matech assure une gamme complète de matériaux ultra-hauts de pureté pour répondre aux besoins des clients domestiques et internationaux. Nous fournissons non seulement les matières premières de grande pureté, mais également pouvons faire de diverses matières premières de grande pureté pour des clients, tels que la cible ultra-haute de pulvérisation de magnétron en métal de pureté, cible de pulvérisation de magnétron de pile solaire, matériel de revêtement solaire d'évaporation de film, fil machine de grande pureté électronique, bande, poudre…


Approvisionnement de carte mère de cible de pulvérisation, service de collage : le centre fournit un grand choix de carte mère de cible de pulvérisation, y compris le cuivre en l'absence d'oxygène, le molybdène, l'aluminium, l'acier inoxydable et d'autres matériaux. En même temps, il fournit le service de soudure entre la cible et le plat arrière.

 

La cible 99,99%, la cible 99,99% de pulvérisation de nickel de pulvérisation de nickel sont disponible dans des tailles variables

 

D100x40mm, D101.6x3.175mm etc.

 

Nom de produit Élément Purirty ℃ de point de fusion Densité (g/cc) Formes disponibles
Haut ruban pur AG 4N-5N 961 10,49 Fil, feuille, particule, cible
Haut aluminium pur Al 4N-6N 660 2,7 Fil, feuille, particule, cible
Haut or pur Au 4N-5N 1062 19,32 Fil, feuille, particule, cible
Haut bismuth pur Bi 5N-6N 271,4 9,79 Particule, cible
Haut cadmium pur Cd 5N-7N 321,1 8,65 Particule, cible
Haut cobalt pur Co 4N 1495 8,9 Particule, cible
Haut chrome pur Cr 3N-4N 1890 7,2 Particule, cible
Haut cuivre pur Cu 3N-6N 1083 8,92 Fil, feuille, particule, cible
Haut Ferro pur Fe 3N-4N 1535 7,86 Particule, cible
Haut germanium pur GE 5N-6N 937 5,35 Particule, cible
Haut indium pur Dans 5N-6N 157 7,3 Particule, cible
Haut magnésium pur Magnésium 4N 651 1,74 Fil, particule, cible
Haut magnésium pur Manganèse 3N 1244 7,2 Fil, particule, cible
Haut molybdène pur MOIS 4N 2617 10,22 Fil, feuille, particule, cible
Haut niobium pur NOTA: 4N 2468 8,55 Fil, cible
Haut nickel pur Ni 3N-5N 1453 8,9 Fil, feuille, particule, cible
Avance pure élevée Pb 4N-6N 328 11,34 Particule, cible
Haut palladium pur Palladium 3N-4N 1555 12,02 Fil, feuille, particule, cible
Haut platine pur Pinte 3N-4N 1774 21,5 Fil, feuille, particule, cible
Haut silicium pur SI 5N-7N 1410 2,42 Particule, cible
Haut étain pur Sn 5N-6N 232 7,75 Fil, particule, cible
Haut tantale pur Merci 4N 2996 16,6 Fil, feuille, particule, cible
Haut tellurium pur Te 4N-6N 425 6,25 Particule, cible
Haut titane pur Ti 4N-5N 1675 4,5 Fil, particule, cible
Haut tungstène pur W 3N5-4N 3410 19,3 Fil, feuille, particule, cible
Haut zinc pur Zn 4N-6N 419 7,14 Fil, feuille, particule, cible
Haut zirconium pur Zr 4N 1477 6,4 Fil, feuille, particule, cible

 

 

Nickelez les cibles de pulvérisation pour les applications 8.9g/Cm3 commerciales et de recherches 0

Prenez contact avec nous

Entrez votre message

Vous pourriez être dans ces