Cibles de revêtement de pulvérisation de molybdène de la couche mince de PVD

Cible de pulvérisation de molybdène pour le revêtement de la couche mince

Description de produit :

1. Catégorie : Mo1, TZM, alliage de MoNb.

2. Pureté : > =99.95%

3. Caractéristique :

Point de fusion : 2610°C

Point d'ébullition : 5560°C

Densité : 10.2g/cm3

De haute qualité, caractère réalisable

4. Certificat : ISO9002

5. Caractéristique du produit : Point de fusion élevée, haute densité, résistance à l'oxydation à hautes températures, longue durée de vie, résistance à la corrosion.

Le point de fusion de la cible enduite de pulvérisation de molybdène est 2610℃ et le point d'ébullition est le ℃ 5560. Et la pureté de elle peut jusqu'à 99,95%.

La cible enduite de pulvérisation de molybdène a beaucoup d'avantages tels que le point de fusion élevée, la résistance physique élevée, le haut module d'élasticité, la grande conduction thermique et la résistance à la corrosion et ainsi de suite.

Application :

· Industrie électronique comme revêtement de carte PCB ;

· Industrie d'écran plat comme revêtement d'affichage à cristaux liquides ;

· Revêtement optique

· Semi-conducteur électronique

· Matériel de pulvérisation et métallisation sous vide ;

· Film de PVD enduisant etc.

Image de cible de pulvérisation de molybdène :