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Cible de pulvérisation de nickel pur 4N 99,99%

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: Chine
Nom de marque: JX
Certification: ISO 9001
Numéro de modèle: 4N
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: 2 pièces
Détails d'emballage: Boîte en contreplaqué avec panneau de mousse absorbant les chocs
Délai de livraison: 20-25 jours
Conditions de paiement: LC, D/A, D/P, T/T, Western Union

Description de produit

Résumé

La cible de pulvérisation de nickel pur est une cible de pulvérisation faite de nickel de haute pureté avec une pureté de 99,99%,qui est principalement utilisé dans la technologie de dépôt physique pour créer des films de haute uniformité et de haute performanceAvec son excellente conductivité, sa résistance à la corrosion et sa stabilité à haute température, il joue un rôle irremplaçable dans des domaines tels que l'aérospatiale, la fabrication de circuits intégrés, les appareils d'affichage,et les batteries à énergie nouvelleNotre société a plus de dix ans d'expérience professionnelle dans la production et l'exportation de cibles de pulvérisation, et peut également fournir aux clients des cibles de titane personnalisées, cibles de tungstène,cibles de chromeSi vous êtes intéressé, n'hésitez pas à nous contacter par e-mail.

 

 

Avantages du nickel 4N

  • Une pureté élevée évite les impuretés formant des défauts dans le film ou affectant les caractéristiques de migration d'électrons, et peut obtenir une formation uniforme de film de grandes surfaces de substrats.
  • Une bonne stabilité chimique, un film dense sans défauts, une résistance aux acides et aux alcalis et à l'oxydation, peuvent s'adapter à diverses conditions de travail difficiles.
  • Une bonne conductivité et une faible résistivité peuvent réduire considérablement la consommation d'énergie des appareils électroniques dans les circuits intégrés.
  • Des performances stables à haute température, adaptées à la pulvérisation à haute puissance et aux procédés ultérieurs à haute température.
  • Il a une excellente ductilité et peut atteindre une densification presque totale par pressage isostatique à chaud,réduisant le risque de déformation de la cible lors de la pulvérisation et ayant une longue durée de vie.

Dimension de la cible de pulvérisation de nickel pur

 

Le type Diamètre Épaisseur Applications typiques
Grade standard industriel φ100 mm à 200 mm 3 à 7 mm Ligne de production de masse de panneaux d'affichage et de semi-conducteurs
Catégorie de grande taille φ250 mm à 400 mm 6 à 15 mm Couche à grande surface, cellules photovoltaïques
Ultra-mince, de qualité sur mesure φ50 à 200 mm 0Un.5 mm. Appareils spéciaux de précision, systèmes microélectromécaniques
Grade 4N Ni
La pureté 99.99
Densité 80,91 g/cm3
Résistance 60,9 μΩ·cm ((20°C)
Résistance à la traction 400 à 660 MPa
La norme Pour l'utilisation des appareils électroménagers
Quantité de produit 2 PCS
Délai de livraison 20 à 25 jours
Certification Pour les produits de base

 

Application des cibles de pulvérisation de nickel

  1. Les semi-conducteurs et les circuits intégrés: Pure Nickel Sputtering Target fabrique des circuits intégrés à grande échelle en tant que matériaux de couche de contact de la porte, assurant la conductivité et la longévité de la puce.,Il peut également être utilisé comme couche de barrière entre la couche conductrice d'or et la couche de liaison au nickel pour assurer la fiabilité de l'interconnexion métallique.
  2. Dispositifs électroniques fonctionnels: utilisés pour la préparation de dispositifs de mémoire magnétique, de capteurs magnétiques, de mémoire magnétique aléatoire et d'autres dispositifs magnétiques;Il est utilisé dans les appareils électroniques pour réduire les interférences électromagnétiques et améliorer les performances et la fiabilité des équipements.
  3. Aérospatiale: Utilisé pour créer des films de protection pour les composants, les échangeurs de chaleur et les composants du moteur dans des environnements à haute température, garantissant la sécurité des opérations aéronautiques.
  4. Le revêtement de surface utilisé pour préparer les outils réduit efficacement l'usure du matériau de matrice d'outil pendant la production et le traitement, améliorant considérablement la durée de vie de l'outil.
  5. Cellules solaires: Utilisées pour préparer des électrodes, des couches absorbantes, des couches de barrière et d'autres structures afin d'améliorer l'efficacité de conversion et la stabilité des cellules.
  6. Domaine de décoration: Utilisé dans les boîtiers électriques haut de gamme, les panneaux de produits électroniques et d'autres domaines, fournissant un lustre métallique argenté brillant.

Processus de cible pour le nickel

(1) Fusion par faisceau d'électrons: utiliser des faisceaux d'électrons à haute énergie pour bombarder les matières premières au nickel dans un environnement à vide élevé pour les faire fondre pour obtenir une purification profonde

(2) Fusion par induction sous vide: élimine davantage les impuretés gazeuses (comme l'oxygène, l'azote) et contrôle l'uniformité de la composition.

(3) Formage par coulée: le nickel liquide de haute pureté purifié est coulé en lingots solides à l'aide de moules.

(4) Traitement du plastique: forgeage à haute température, laminage à chaud, laminage à froid et laminage à chaud des lingots de nickel pour affiner considérablement les grains et les rendre uniformes et denses.

(5) Traitement thermique: recuit intermédiaire et recuit de recristallisation pour assurer une microstructure stable de la cible.

(6) Utilisation de précision: découpe, fraisage, perçage et autres usinages selon les exigences du client afin d'obtenir des tolérances dimensionnelles précises.

(7) Traitement de surface: après polissage électrolytique ou polissage mécanique, la rugosité de la surface est de Ra≤0,2 μm pour s'assurer que la surface est plate et qu'il n'y a pas de défauts évidents.

 

Images de cibles à pulvérisation de nickel pur

Cible de pulvérisation de nickel pur 4N 99,99% 0Cible de pulvérisation de nickel pur 4N 99,99% 1

 

Emballage

Cible de pulvérisation de nickel pur 4N 99,99% 2

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