99,95% application pure de moule de Moly Ion Implantation In Semiconductors Injection

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: LA CHINE
Nom de marque: JINXING
Certification: ISO 9001
Numéro de modèle: Mo1 Moly a implanté Ion Parts
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: 10 kilogrammes
Prix: Negotiable
Détails d'emballage: caisses de contreplaqué
Délai de livraison: 15-20 jours
Conditions de paiement: L/C, T/T, D/P, Western Union
Capacité d'approvisionnement: 2000 kilogrammes par mois

Détail Infomation

Nom de produit: Moly a implanté Ion Parts Catégorie: Mo1
Densité: 10,2 G/cm3 Pureté: >99,95%
Résistance à la traction: >MPA 320 Élongation: <21>
Norme: ASTM B387-2010 Application: Moulage par injection
Surligner:

Moly Ion Implantation In Semiconductors

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99

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95% Ion Implantation In Semiconductors

Description de produit

99,95% Moly pur a implanté l'application d'Ion Parts For Injection Mold

Ion Parts implanté par Moly sont plus efficace et étendu dans la recherche et l'application de la modification extérieure de l'implantation ionique matérielle de non-semi-conducteur. Beaucoup l'implantation ionique d'azote ne peut pas être réalisée, mais l'implantation ionique en métal peut être réalisée très bien. Cependant, l'implanter traditionnel d'ion est basé sur la condition de l'implantation ionique de semi-conducteur, et il est difficile d'obtenir un faisceau d'ions relativement fort en métal, et le coût de modification de surface d'implantation ionique pour des matériaux de non-semi-conducteur est relativement élevé.

 

 

CARACTÉRISTIQUES ET COMPOSITIONS CHIMIQUES (NORNIMAL)

Matériel Catégorie Compositions chimiques (en poids)
Moly pur Mo1 >99.95%min. MOIS
Alliage Ti-Zr-MOIS TZM Zr du Ti de 0,5 %/0,08 %/0,01 - 0,04 % C
MOIS-à haute fréquence-c MHC À haute fréquence de 1,2 %/0,05 - 0,12 % C
Rhénium de Moly Plus 5,0 % re
Tungstène de Moly MoW20 20,0 % W
Tungstène de Moly MoW505 0,0 % W

 

 

 

 

 

 

Les avantages de Moly ont implanté la technologie d'Ion Parts :

Moyens d'implantation ionique que quand un faisceau d'ions est émis dans un matériel solide dans le vide, le faisceau d'ions frappe les atomes ou les molécules du matériel solide hors de la surface du matériel solide. Ce phénomène s'appelle pulvérisation ;

 

Quand le faisceau d'ions frappe le matériel solide, il rebondit de la surface du matériel solide ou des passages par le matériel solide. Ces phénomènes s'appellent dispersion ;

 

Un autre phénomène est qu'après que le faisceau d'ions soit tiré dans le matériel solide, il est lentement réduit par la résistance du matériel solide, et reste finalement dans le matériel solide. Ce phénomène s'appelle l'implantation ionique.

 

Les DEMANDES de Moly ont implanté Ion Parts

La supériorité, la praticabilité et la large perspective commerciale de cette technologie de préparation de surface ont été appréciées par de plus en plus des départements et des unités et ont été très utilisées. Selon des années de recherche et développement, l'implantation ionique en métal est particulièrement appropriée à la préparation de surface des types suivants des outils, des matrices et de pièces :

 

  • Les moules de précision dans l'industrie de semi-conducteur, emboutissant et emboutissant des moules dans l'industrie de boîte peuvent de manière significative améliorer la vie active de ces moules précieux et de précision ;
  • Les pièces de réparation orthopédiques médicales (telles que les joints artificiels d'alliage titanique) et les instruments chirurgicaux ont les prestations économiques et sociales très bonnes.
  • Les composants d'accouplement de mouvement de précision, tels que le redresseur et le rotor de la pompe d'extraction d'air, came et mandrin de gyroscope, de piston, d'incidence, de vitesse, de tige de vortex de turbine, etc., peuvent considérablement réduire le coefficient de frottement, améliorer la résistance à l'usure et la résistance à la corrosion, et prolongent la durée de vie jusqu'à plus de 100 fois ;
  • Moly a implanté Ion Parts Picture :

  • 99,95% application pure de moule de Moly Ion Implantation In Semiconductors Injection 099,95% application pure de moule de Moly Ion Implantation In Semiconductors Injection 1

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